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國碩攜工研院 推高效散熱新技術

國碩(2406)宣布攜手工研院,將國碩「Di-Fin直接成型鰭片技術」導入工研院所開發的冷板散熱技術中,並希望透過雙方的合作與後續驗證,布局高效散熱,進軍HPC/AI領域的相關應用。

因應全球HPC/AI應用熱潮與伺服器產業對高效散熱的嚴苛需求,國碩經工研院協助轉型,將國碩「Di-Fin 直接成型鰭片技術」導入工研院所開發的冷板散熱技術中,並希望透過雙方的合作與後續驗證,展開公司在HPC/AI方面的應用。

國碩表示,公司自研的「Di-Fin 直接成型鰭片技術」,採用鑽石磨料進行高精度加工,可精密成型高深寬比、一維或二維排列鰭片,可搭配工研院所開發的直接液冷、浸沒式散熱、VC均溫板等散熱技術。目前雙方正在討論技術合作,以及進行後續測試驗證中。此次2025 OCP APAC Summit中,國碩與工研院共同展出該技術的樣品,未來希望可以大量應用在HPC/AI的散熱元件。

國碩長期耕耘綠能,持續擴展能源資產,在台灣擁有12MW的自有太陽能電廠,以及17.5MW的儲能設施。此外,轉投資公司共擁有約105MW的太陽能電廠。這些發電廠合計每年可產生約1.46億度的綠色電力,為台灣的乾淨能源發展做出貢獻。在此趨勢之下,國碩亦積極拓展屋頂型案場與漁電共生計畫。